Çin'in dünyanın ilk ultraviyole süper çözünürlüklü litografi makinesini başarıyla geliştirdiğini düşünüyorsunuz? Doğru mu, övünme mi? Veya başka bir şey...??
Dün, Çin'in başarılı süper çözünürlüklü litografi makinesiyle ilgili haberler arkadaş çevresini patlattı.Haberler çıktıktan sonra iki uç noktada kamuoyu ortaya çıktı.Bir grup insan bunun çok iyi olduğunu söyledi ve bir grup insan bunun övündüğünü söyledi. Peki bu iki ifadede kim haklı ya da yanlış?
Önce haberlere bakalım:
Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Teknoloji Enstitüsü tarafından yürütülen "Süper çözünürlüklü litografi ekipmanının geliştirilmesi" projesi kabulü 29'unda geçti.
Bu, Çin tarafından başarıyla geliştirilen dünyanın ilk ultra yüksek çözünürlüklü ultraviyole süper çözünürlüklü litografi ekipmanıdır. Litografi makinesi, Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Teknolojisi Enstitüsü tarafından 22 nanometre litografi çözünürlüğü ile geliştirilmiştir.Çoklu pozlama teknolojisi ile birleştirildiğinde, 10 nanometre seviyesinde çipler üretmek için kullanılabilir.
Çin Bilimler Akademisi Fizik ve Kimya Teknik Enstitüsü Akademisyeni Xu Zuyan'ın da dahil olduğu kabul ekibinden uzmanlar, oybirliğiyle, litografi makinesinin 365 nm dalga boyunda tek bir pozlama için maksimum 22 nm hat genişliği çözünürlüğüne sahip olduğunu belirtti. Proje, ilke olarak çözünürlük kırınım sınırını aşıyor, ilgili yabancı fikri mülkiyet engellerini atlayarak yüksek çözünürlüklü, geniş alanlı nanolitografi ekipmanının araştırılması ve geliştirilmesi için yeni bir yol oluşturuyor. Metamalzemelerin / meta yüzeylerin, üçüncü nesil optik cihazların ve genelleştirilmiş yongaların sıçrama gelişimi için üretim araçları sağlar.
Projenin baş tasarımcı yardımcısı Hu Song'a göre, yüzey plazmon süper çözünürlüklü litografi ekipmanı, Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Enstitüsü tarafından kabulü geçti ve geleneksel rota modelini kırdı ve tamamen bağımsız fikri mülkiyet haklarına sahip yeni bir nano-optik litografi teknolojisi rotası oluşturdu.
Şu anda, büyük açıklıklı ince film aynalar, süper iletken nanotel tek foton dedektörleri, Cerenkov radyasyon cihazları, biyokimyasal sensör çipleri ve ultra yüzey görüntüleme cihazları dahil olmak üzere başarılı bir şekilde geliştirilmiş süper çözünürlüklü litografi ekipmanı kullanılarak bir dizi nano işlevli cihaz hazırlanmıştır. Ve böylece, ekipmanın nano işlevli cihazları işleme kapasitesinin pratik düzeye ulaştığı doğrulandı.
Süper çözünürlüklü litografi ekipmanı ile işlenmiş 4 inçlik litografi örnekleri
Litografi makinesi, cips üretimi için temel ekipmandır ve Çin bu alanda uzun süredir geride kalmıştır. Master üzerindeki ince grafikleri pozlama yoluyla silikon plakaya aktarmak için fotoğraf baskısına benzer bir teknoloji kullanır.Genel olarak, fotolitografinin çözünürlüğü ne kadar yüksekse, işlenen çipin entegre derecesi o kadar yüksek olur.
Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Enstitüsü müdürü ve süper çözünürlüklü litografi ekipmanı projesinin baş bilim adamı araştırmacı Luo Xiangang, 2012 yılından bu yana enstitünün Çin'deki yabancı tekelleri ve kısıtlamaları kırmak için büyük bir ulusal bilimsel araştırma ekipmanı projesi olan süper çözünürlüklü litografi ekipmanı üstlendiğini söyledi. Yaklaşık 7 yıllık zorlu araştırma ve geliştirmeden sonra, proje ekibi yüksek tekdüzelikli aydınlatma, süper çözünürlüklü litografi lensleri, nano çözünürlüklü odaklama ve boşluk ölçümü ve ultra hassas ve çoklu Dünyanın en yüksek çözünürlüğe sahip ilk UV süper çözünürlüklü litografi ekipmanının geliştirilmesi, serbestlik derecesi iş parçası aşaması ve kontrolü gibi anahtar teknolojilerle tamamlanmıştır. 365 nm dalga boyunda bir ışık kaynağı kullanır ve tek bir pozlamanın maksimum hat genişliği çözünürlüğü 22 nm'ye (yaklaşık 1/17 pozlama dalga boyu) ulaşır. ). Bu temelde, proje ekibi ayrıca, 10 nm'nin altındaki özellik boyutlarının işlenmesini gerçekleştirmek için süper çözünürlüklü litografi ekipmanı projesi tarafından geliştirilen yüksek en boy oranı aşındırma ve çoklu desenleri birleştirdi.
Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Enstitüsü'nden araştırmacılar, süper-çözünürlüklü litografi ekipmanı ile işlenen süper iletken nanotel tek foton dedektörlerini gösteriyor.
Bu litografi makinesiyle yapılan ilgili cihazlar, Çin Havacılık ve Uzay Bilimleri ve Teknolojisi Kurumu Sekizinci Araştırma Enstitüsü, Çin Elektronik Bilim ve Teknoloji Üniversitesi Terahertz Bilim ve Teknoloji Araştırma Merkezi, Sichuan Üniversitesi Batı Çin Hastanesi ve Mikrosistemler Enstitüsü, Çin Bilimler Akademisi Devlet Anahtar Fonksiyonel Malzemeler Laboratuvarı gibi birçok bilimsel araştırmada kullanılmıştır. Enstitülerin ve üniversitelerin temel araştırma görevlerinde uygulanır.
Projenin baş tasarımcı yardımcısı olan araştırmacı Hu Song, süper çözünürlüklü litografi ekipmanının araştırma ve geliştirmesini tanıttı
Şu anda, Zhongke Optoelektronik Enstitüsü'nün Süper Çözünürlüklü Litografi Ekipman Projesi 68 makale yayınladı, 47 ulusal buluş patenti, 4 yetkili uluslararası patent aldı ve süper çözünürlüklü bir litografi teknolojisi ve ekipman araştırma ve geliştirme ekibi kurdu. Luo Xiangang, Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Enstitüsü'nün, fonksiyonel çeşitlendirme araştırma ve geliştirmesini, süper çözünürlüklü litografi ekipmanının tanıtımını ve uygulamasını daha da artıracağını ve ilgili ulusal alanların geliştirilmesini teşvik edeceğini söyledi.
Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Enstitüsü'nden araştırmacılar süper çözünürlüklü litografi ekipmanı kullanıyor
Bu haberle ilgili olarak, Zhihu ve diğer topluluklardaki tartışmaları okudum. Güçlü ve bazılarının ısrarcı olduğu söyleniyor Öyleyse kim haklı, kim yanlış? Ürünlerimiz hangi seviyeye ulaştı?
Referansınız için tartışma yanıtlarından bazılarını alıntılıyoruz:
Netizenleri tanımak:
Her şeyden önce, prensipte büyük bir yenilik olmalıdır.Görece uzun (düşük enerjili) bir ışık kaynağı iyi sonuçlar verebilir.Bu büyük bir atılımdır.Ancak, böyle bir teknolojinin gelecekte sorunsuz bir şekilde devrim niteliğinde ilerleme sağlayıp sağlayamayacağı bir sorundur. Sonuçta sorun, ASML şu anda 3nm veya hatta 1nm sürecini nasıl kırılacağını inceliyor.
İkincisi, Batı yarı iletken endüstrisinin ustası ASML'nin tekeli ile karşı karşıyayız.Gelecekte başka alanlarda daha iyi olacaklar mı, hatta silikon yarı iletkenleri atlatacaklar mı?
Profesyonellerin bunu yorumlamasına izin verin.
Mevcut kamuya açık bilgilerden yola çıkarak, bu Dongdong, yıllar önce teorik araştırma atılımları yaptı.
[1] 2011'de "Science Times", Çin'in nanolitografi teknolojisi araştırmasında bir atılım yayınladı
[Science Times] Çin'in nanolitografi teknolojisi araştırması atılımlar yaptı
Birkaç gün önce, Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Teknolojisi Enstitüsünün Mikrolitografi Teknolojisi ve Mikrooptik Laboratuvarı ilk olarak mikro yapının marjına dayalı LSP süper çözünürlüklü litografi teknolojisini önerdi. Bu teknoloji, mikro-nano yapının kenarını, yüzey plazmonlarını etkin bir şekilde uyarmak için bir maske modeli olarak kullanır. 30 nanometreden daha küçük bir özellik boyutuna sahip süper çözünürlüklü litografi desenleri elde etmek için sıradan I-hattı ve G-hattı ışık kaynaklarını kullanır.
Sorumlu kişiye göre, geleneksel mikrolitografi işlemi mümkün olan en kısa maruz kalma dalga boyunu kullanıyor ve yüzlerce nanometre hatta onlarca nanometre litografi çözünürlüğü elde etmesi bekleniyor. Bununla birlikte, pozlama dalga boyunun kısaltılmasıyla, tüm litografi ekipmanının maliyeti de keskin bir şekilde artmıştır. Mevcut ana akım 193 litografi makinesini örnek olarak alın, fiyatı on milyonlarca dolar. Bu kadar yüksek maliyet, kısa dalga boylu ışık kaynağı litografi teknolojisinin uygulanmasını ciddi şekilde sınırlar.
[2] 2015 yılında, Chengdu TV litografi makinelerinin en son geliştirmesini bildirdi
Chengdu TV İstasyonunun "Chengshi Haberleri" köşe ekibi, Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Enstitüsü'nün Mikrofabrikasyon Optik Teknolojisi Devlet Anahtar Laboratuvarı'na geldi ve laboratuarın "büyük bir güç silahı" inşası gibi teknolojik inovasyona dayalı gelişimin gelişimi hakkında ayrıntılı raporlar ve aynı zamanda endüstriyi yönlendirmek ve insanların geçimine fayda sağlamak.
Optoelektronik Enstitüsü'nün Mikrofabrikasyon Optik Teknolojisi Devlet Anahtar Laboratuvarı tarafından geliştirilen SP litografi makinesi, 22 nm'ye kadar tek görüntüye sahip dünyanın ilk litografi makinesidir.Çoklu pozlama teknolojisi ile birleştirildiğinde, 10 nm'nin altındaki bilgi cihazlarını hazırlamak için kullanılabilir. Bu sadece dünyadaki optik litografide büyük bir değişiklik değil, aynı zamanda Endüstri 4.0'ın ilerlemesini hızlandırıyor ve 2025 Made in China vizyonunu gerçekleştiriyor.
Not: Yukarıdaki sektördeki birçok insanın bu insanların övündüğünü düşündüğünü biliyorum, bu haberler şekerleme, bu makine ticarileştirilemez. Bu litografi makinesinin hala çok olgunlaşmamış olduğu ve ticari beklentilerinin belirsiz olduğu doğrudur, ancak bu tür bir yangınla yıllar sonra litografi makinesinin yüksek teknoloji listesinden çıkarılabileceği ve nozüldeki "geriye dönük teknoloji" haline gelebileceği öngörülebilir. "
Netizeni tanıyın: McFly
Diğer cevapların bir resmini ödünç alırsak, haberler aslında çok açık.
Avantajlar: Yalnızca tek bir pozlamayla 22nm düzeyinde litografi elde etmek için bir lahana fiyatı kaynağı kullanmak. ASML'den tamamen farklı bir teknik yol alın.
Dezavantajlar: Şu anda IC üretmek için kullanılamaz. Yalnızca metamalzemeler ve optik cihazlar yapmak için kullanılabilir.
Netizeni tanıyın: Thomas
Bu tür yerli litografi makinesi seri üretilirse mevcut asml'ye göre büyük bir avantaja sahiptir. Eski moda ışık kaynaklarının kullanılması, büyük bir ışık kaynağı pahalı tedarik maliyetlerinden tasarruf sağlar, ancak yarı iletken ekipman pazarında oyunun mevcut kurallarını ihlal etmesi beklenebilen gelişmiş ışık kaynaklarının çoğundan daha yüksek çözünürlüğe ulaşabilir. Çin yapımı litografi makinesi, Çin'in fethettiği diğer yüksek teknolojili ekipmanlarla aynı olabilir ve gelecekte lahana fiyatı olacaktır. .
Bu ekipmanın harika yanı, "litografinin çözünürlüğünün 22'ye ulaşması, çünkü çoklu pozlama teknolojisi ile birleştirildiğinde, 10 nanometre seviyesinde çipler üretmek için kullanılabilir."
Ancak "litografi makinesi, 365 nanometre dalga boyunda tek bir pozlamada 22 nanometre maksimum hat genişliğine sahiptir."
Asml'nin 193nmArF'si aynı zamanda Shen UV ışık kaynağı olarak da adlandırılır. 193nmArF ışık kaynağı kullanan kuru litografi makinesi, 45 nm'ye kadar litografi işlem düğümüne sahiptir.Daldırma litografi, optik yakınlık etkisi düzeltme ve diğer teknolojileri kullandıktan sonra, sınır litografi işlem düğümü 28 nm'ye ulaşabilir.
Bağımsız fikri mülkiyet haklarına sahip olan fotolitografi makinesi, Çin Bilimler Akademisi Optoelektronik Teknoloji Enstitüsü tarafından kabulü geçti, 365 nanometre dalga boyunda tek bir pozlama için maksimum 22 nanometre hat genişliği çözünürlüğüne sahip.Çoklu pozlama teknolojisi ile birleştirildikten sonra 10 nanometre üretmek için kullanılabilir. Chip, 193 ışık kaynağının seviyesi nedir?
Çin Bilimler Akademisi Chengdu Optoelektronik Enstitüsü'nün bağımsız fikri mülkiyet haklarına sahip 22nm hassas litografi makinesi, çok net bir geliştirme bağlamına sahiptir ve yaklaşık yedi yıldır her seferinde bir adım olmuştur.
Görüş eklemek ve ifade etmek için bir mesaj bırakmaya hoş geldiniz.
